EFECTO DEL pH SOBRE LA OXIDACIóN ELECTROQUíMICA DE FENOL EMPLEANDO UN áNODO DIMENSIONALMENTE ESTABLE DE SnO2-Sb2O5-RuO2

 

G.C. López-Ojeda, Ma. R. Gutiérrez-Lara, A. Durán-Moreno

 

 

En el presente trabajo se estudió el desempeño de un ánodo dimensionalmente estable (DSA por sus siglas en inglés) recubierto con capas de SnO2-Sb2O5-RuO2 para su empleo en la oxidación anódica de soluciones sintéticas de fenol. Las capas de recubrimiento fueron aplicados por depositación catódica sobre una malla metálica de titanio, seguida de una activación térmica a 450 ºC. El ánodo se caracterizó por microscopía electrónica de barrido y voltamperometría cíclica. Para las pruebas experimentales se empleó un reactor tubular y concentraciones de fenol de 100, 300, 500 y 1000 mg/L utilizando NaCl como electrolito soporte y valores de pH de 2, 7 y 12. El mecanismo de oxidación fue función del pH, por medio de la generación de oxidantes derivados del cloro sumada a la generación de radicales hidroxilo de la electrolisis del agua. En todos los casos, se obtuvieron porcentajes de remoción mayores al 90% medidos en términos de disminución de fenol, del 80% para la demanda química de oxígeno y del 70% en el carbono orgánico total. En los experimentos realizados con la mayor concentración de fenol en condiciones ácidas, se observó el efecto de polimerización de los subproductos de la oxidación del fenol.